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    OBLF火花發射光譜儀VeOS 對所有常見金屬材料進行多功能、靈活和快速的分析

    2022-01-05 13:40:00瀏覽:232 來源:北京漢達森機械技術有限公司   
    核心摘要:專業從事歐洲工業產品進口貿易 更多信息請咨詢下方業務人員漢達森 祁佳強
       OBLF 的 VeOS 火花發射光譜儀采用基于為發射光譜專門開發的半導體探測器的尖端探測器技術,能夠對所有常見金屬材料進行多功能、靈活和快速的分析。分析光譜還包括對短波長元素(如氮或低碳)的精確分析。
    祁佳強
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    電話:010-64714988-216
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    祁佳強郵箱:tk5@handelsen.cn電話:010-64714988-216 祁佳強微信二維碼

      主要特征

      完整而靈活地包含所有分析任務

      易于擴展的功能

      最新、專門開發的探測器技術

      在檢出限、精密度、穩定性方面表現出色

      用于重型環境的堅固設計

      最全面的多矩陣應用選項,對分析元素的選擇沒有任何限制

      準確檢測 N 和痕量碳 (ULC)

      技術參數

      Paschen-Runge 安裝中的光譜儀

      羅蘭圓直徑 500 毫米

      波長范圍 130-700 nm

      光學元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C,具有出色的長期穩定性

      冷卻光學元件和讀出系統

      自動計算機控制的輪廓

      每個波長區域的優化檢測器線

      沒有傳感器涂層的高紫外線靈敏度

      抗震性

      帶集成多火花系統的門控數字源 (GDS)

      免維護

      火花頻率高達 1 kHz

      單極中壓放電

      預點火和積分可選的單獨參數

      可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性

      點火電壓 20kV

      寬 74 厘米

      身高 134 厘米

      深度 115 厘米

      重量約300公斤

      電源供應

      230V;50/60赫茲;1,5 kVA

      待機模式下 300 W

      環境條件

      工作溫度 10 – 40 ºC

      QSN 750-II

      我們的 QSN 750-II 型號是一款火花發射光譜儀,由于其 750 mm真空光學元件,可用作單矩陣或多矩陣系統。這導致了廣泛的應用領域,不僅涵蓋了整個金屬生產和加工企業,而且還包括材料測試人員和測試機構的廣泛選擇。

      集成系統和光電倍增管均按照客戶要求進行布置,均安裝在光學器件內部,因此可免受外部影響。溫度穩定的光學元件和門控數字源 (GDS)技術保證了高度的信號再現性和分析穩定性。

      易于觸及的自清潔和專利火花支架和孔窗使用戶能夠進行無故障維護。排氣過濾器可確保清除消耗的氬氣。

      主要特征

      多矩陣應用

      多達 64 個 PMT 單元通道

      GDS III 火花發生器

      真空系統

      自清潔火花架

      適用于自動化系統

      雙電極系統作為選項

      自動電極清潔作為選項

      技術參數

      Paschen-Runge 安裝中的光譜儀

      羅蘭圓直徑 750 毫米

      波長范圍 110-770 nm

      光學元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C,具有出色的長期穩定性

      自動計算機控制的輪廓

      昏迷矯正狹縫

      根據各自波長選擇 PMT 類型

      抗震性

      帶集成多火花系統的門控數字源 (GDS)

      免維護

      火花頻率高達 1 kHz

      單極中壓放電

      預點火和積分可選的單獨參數

      可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性

      點火電壓 20kV

      穩定的 PMT 高壓電源

      每個通道動態 16 位 AD 轉換

      DSP 處理器控制

      USB 接口至光譜儀 PC

      尺寸和重量

      寬 104 厘米

      身高 130 厘米

      深度 90 厘米

      重量 約 460 公斤

      電源供應

      230V;50/60赫茲;1,5 kVA

      待機模式下 500 W

      環境條件

      工作溫度 10 – 40 ºC

      QSG 750-II

      描述

      我們的QSG 750-II火花發射光譜儀也堪稱OBLF的旗艦機型。這種單基質或多基質模型非常適合要求盡可能低的檢測限、最高程度的重現性和有關分析物的額外冶金信息的所有應用。

      應用范圍從鋼鐵廠或其他冶煉廠等初級生產商到金屬加工公司,再到研究機構和大學。

      QSG 750-II 與QSN 750-II型號相當。主要區別在于數據記錄系統,它基于OBLF 開發的GISS技術(單火花門控集成)。在尺寸相同的情況下,它還配備了久經考驗的硬件組件,

      如溫度穩定的 750 毫米真空光學器件、具有可自由定義參數的門控數字源 (GDS)技術和獲得專利的自清潔火花支架。排氣過濾器可確保清除消耗的氬氣。所有關鍵設備部件都易于訪問,簡化了需要用戶執行的服務任務。

      主要特征

      多矩陣應用

      多達 64 個 PMT 單元通道

      GDS III 火花發生器

      真空系統

      自清潔火花架

      適用于自動化系統

      門控集成 (GISS)

      包含分析(GISS)

      可選 ULB 雙電極系統

      自動電極清潔作為選項

      技術參數

      Paschen-Runge 安裝中的光譜儀

      羅蘭圓直徑 750 毫米

      波長范圍 110-770 nm

      光學元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C,具有出色的長期穩定性

      自動計算機控制的輪廓

      昏迷矯正狹縫

      根據各自波長選擇 PMT 類型

      抗震性

      抽真空的輕金屬室

      免維護 2 級旋片泵

      真空泵集成在機柜中

      泵占空比 <5%

      油擴散保護

      自動壓力調節和穩定

      帶集成多火花系統的門控數字源 (GDS)

      免維護

      火花頻率高達 1 kHz

      單極中壓放電

      預點火和積分可選的單獨參數

      可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性

      點火電壓 20kV

      開放式樣品臺,便于操作

      低磨損頂板,開口 12 毫米

      可選擇用于小零件和電線的適配器

      低磨損鎢電極

      用于快速樣品處理的氣動樣品夾

      自動電極清潔作為選項

      每次測量大約消耗 3 升氬氣

      易于維護

      穩定的 PMT 高壓電源

      每個通道 23 位 AD 轉換

      GISS 技術(單火花門控集成)

      DSP 處理器控制

      USB 接口至光譜儀 PC

      尺寸和重量

      寬 104 厘米

      身高 130 厘米

      深度 90 厘米

      重量 約 460 公斤

      電源供應

      230V;50/60赫茲;1,5 kVA

      待機模式下 500 W

      環境條件

      工作溫度 10 – 40 ºC

    (責任編輯:小編)
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